Яндекс.Метрика

Article

Статистический анализ влияния различных факторов на качество фотолитографических операций при производстве интегральных схем

Scopus

В.Ю. Тимофеев, Ю.И. Савотин, Е.Х. Левитман

Issue: 4 , Volume: 16 , Уear of publication: 1973
Serial edition: Известия вузов. Радиоэлектроника
Pages: 30-34
индекс в базе ИАЦ: 034539