Рассматриваются некоторые результаты оптических и рентгенографических исследований ориентировки кристаллов при встречной и последовательной диффузии реагентов в экспериментах по бестрещинному жилообразованию. Направление свободной диффузии реагентов, влияя на макроструктуру бестрещинных жилок, не сказывается на ориентировке слагающих их кристаллов. Статистическая ориентировка кристаллов обусловлена анизотропией внутренней симметрии среды. Воздействие слабого электрического поля обусловливает сочетание макро-и микроструктур в согласованных формах.
