Яндекс.Метрика

Статья

Статистический анализ влияния различных факторов на качество фотолитографических операций при производстве интегральных схем

Scopus

В.Ю. Тимофеев, Ю.И. Савотин, Е.Х. Левитман

Выпуск: 4 , Том: 16 , Год издания: 1973
Сериальное издание: Известия вузов. Радиоэлектроника
Страницы: 30-34
индекс в базе ИАЦ: 034539